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  • 产品介绍

    氧化层硅片

    热氧化厚膜以优越的表面洁净度与安定的质量获得全世界最高的市占率。


    热氧化厚膜以优越的表面洁净度与安定的质量获得全世界最高的市占率。


    产品介绍

    “氧化层硅片”用途

    Undercladding wafer for AWG

    在数组波导光栅(AWG)里 ,被称为Under clad层之最下层的SiO2膜对生产良率有着非常大的决定性作用。 

    59356d7e14500.jpg

    soi.jpgsoi structured 1.jpg

    应用1.jpgsoi structured 2.jpg

    §保证规格

    項目

    規格

    膜厚

    20um±5%(最大膜厚度)

    面内均一性

    ±0.5%

    面间均一性

    ±0.5%

    折射率(@1550nm)

    1.4458±0.0001


    §标准品一览

    尺寸

    晶圆厚度

    热氧化膜厚度

    4inch

    525um 1mm

    15um 、20um

    6inch

    625um 675um 1mm

    15um、20um

    8inch

    725um

    15um、20um

    12inch

    775um

    15um


    其他晶圆尺寸以及膜厚依顾客需求定制(厚度范围 :0.1-30μm)

    §折射率面内分布表面粗度数据

    圖片1.png    


    §无尘室

    未标题-1.jpg      

    “氧化层硅片”用途

    Undercladding wafer for AWG

    在数组波导光栅(AWG)里 ,被称为Under clad层之最下层的SiO2膜对生产良率有着非常大的决定性作用。 

    59356d7e14500.jpg

    soi.jpgsoi structured 1.jpg

    应用1.jpgsoi structured 2.jpg

    §保证规格

    項目

    規格

    膜厚

    20um±5%(最大膜厚度)

    面内均一性

    ±0.5%

    面间均一性

    ±0.5%

    折射率(@1550nm)

    1.4458±0.0001


    §标准品一览

    尺寸

    晶圆厚度

    热氧化膜厚度

    4inch

    525um 1mm

    15um、20um

    6inch

    625um 675um 1mm

    15um、20um

    8inch

    725um

    15um、20um

    12inch

    775um

    15um


    其他晶圆尺寸以及膜厚依顾客需求定制(厚度范围  :0.1-30μm)

    §折射率面内分布表面粗度数据

    圖片1.png    


    §无尘室

    未标题-1.jpg      

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